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GRH1202 乾燥爪真空ポンプ 1200 m3/h 半導体CVDプロセスのための無油産業真空ポンプ

Name: GRH1202 乾燥爪真空ポンプ 1200 m3/h 半導体CVDプロセスのための無油産業真空ポンプ
Brand: Ningbo Baosi Energy Equipment Co., Ltd.
SKU: GRH1202
Price: 1,710.00 USD
Availability: InStock

製品詳細:

起源の場所:	中国
ブランド名:	Baosi
証明:	ISO9001,ISO14001,ISO45001
モデル番号:	GRH1202

詳細情報

起源の場所:

中国

ブランド名:

Baosi

証明:

ISO9001,ISO14001,ISO45001

モデル番号:

GRH1202

排気速度:

1200m3/h

到達圧力:

≤0.5Pa

モーター出力:

7.5+1.9kW

電圧:

380V/三相

入口:

ISO100

出口:

KF40

ノイズ:

≤70 DB (A)

重さ:

220kg

寸法:

821×420×791mm

冷却水:

0.1～0.6MPa、≧4.7L/min

N2パージ:

0.2～0.6MPa、4～96L/min

ハイライト:

High Light

ハイライト:

乾燥爪式真空ポンプ 1200 m3/h

油のない産業用真空ポンプ

半導体CVD真空ポンプ

取引情報

最小注文数量:

1セット

価格:

negotiable

パッケージの詳細:

輸出標準木製ケース包装

受渡し時間:

30～45営業日

支払条件:

T/T

供給の能力:

50セット/月

商品の説明

GRH1202 ドライクロー真空ポンプ — 1200 m3/h オイルフリー産業用ソリューション

GRH1202 は、GRH シリーズの高性能ドライクロー真空ポンプで、要求の厳しい半導体、太陽光発電、リチウム電池の製造プロセス向けに設計されています。 1200 m3/h の排気速度と ≤0.5 Pa の到達圧力により、汚染リスクのない信頼性の高いオイルフリー真空を実現します。

主な特長

オイルフリークロー機構：ポンプチャンバーにはオイルや作動媒体が含まれていないため、デリケートなプロセスに適したクリーンな真空が確保されます。
永久磁石同期モーター:従来のモーターと比較してエネルギー消費量を削減
高度なローター設計:過酷なプロセス環境向けに強化された粉塵処理能力
防塵・防蒸気性:ポンプで送られるガス中の粉塵や水蒸気の影響を受けにくい
コンパクトな設置面積:高いシステム統合性を備えた省スペース設計 (821 * 420 * 791 mm)
包括的な保護:強力な自己適応能力を備えた完全な保護機能
低振動&低騒音:到達圧力での動作時は ≤70 dB(A)
高度なシーリング:リップシールとラビリンスシールシステムを窒素パージと組み合わせて油汚れを防止します。
リモコン:リモート監視および制御用の I/O インターフェイスおよび RS485 (Modbus プロトコル)

技術仕様

モデル	GRH1202
排気速度	1200m3/h
到達圧力	≤0.5Pa
モーター出力	7.5+1.9kW
電圧	380V(三相)
インレット接続	ISO100
コンセント接続	KF40
騒音レベル	≤70dB(A)
重さ	220kg
寸法 (長さ幅高さ)	821420791mm
冷却水圧力	0.1～0.6MPa
冷却水の流れ	≥4.7 L/分
N₂ パージ圧力	0.2～0.6MPa
N₂ パージの流れ	4～96L/分
動作温度	5～40℃。 ≤80%相対湿度

アプリケーション

半導体: エッチング、イオン注入、CVD、ALD、PECVD、MOCVD、SACVD、RTP、HDP-CVD
太陽光発電：結晶成長炉、太陽電池製造
リチウム電池：セル真空乾燥、電解液充填、脱ガス

タグ:

GRH1202 乾燥爪真空ポンプ 1200 m3/h 半導体CVDプロセスのための無油産業真空ポンプ

High Light

ハイライト:

乾燥爪式真空ポンプ 1200 m3/h

油のない産業用真空ポンプ

半導体CVD真空ポンプ

GRH1202 ドライクロー真空ポンプ — 1200 m3/h オイルフリー産業用ソリューション

主な特長

技術仕様

アプリケーション

ターボ真空ポンプ,

高真空ポンプ,

乾燥爪式真空ポンプ 1200 m3/h

GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ

GRH6002 ドライクロー真空ポンプ 6000m3/h 半導体プロセス用超大容量オイルフリー真空ポンプ

GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ

水冷却乾燥真空ポンプ 1200m3/h ≤0.5Pa 工業用用油なし

水冷ドライ真空ポンプ 200m³/h、≦0.5Pa、1.9kW、GRM201

GRM1201 多段階根乾真空ポンプ 1200 m3/h 半導体用PECVDのオイルフリー MOCVD

GRH1802 乾燥爪真空ポンプ 1800 m3/h 半導体製造用高速無油真空ポンプ