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GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ

Name: GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ
Brand: Ningbo Baosi Energy Equipment Co., Ltd.
SKU: GRM601
Price: 1,710.00 USD
Availability: InStock

製品詳細:

起源の場所:	中国
ブランド名:	Baosi
証明:	CE
モデル番号:	GRM601

詳細情報

起源の場所:

中国

ブランド名:

Baosi

証明:

モデル番号:

GRM601

排気速度:

600のmの³ /h

到達圧力:

≤0.15Pa

モーター出力:

1.9+1.9kW

電圧:

380V/三相

入口:

ISO100

出口:

KF25

ノイズ:

≤63dB(A)

重さ:

260 kg

寸法:

865×344×751mm

冷却水:

0.1～0.6MPa、≧4L/min

N2パージ:

0.2～0.6MPa、12～50L/min

ハイライト:

High Light

ハイライト:

GRM602 無油乾燥真空ポンプ多段階根真空ポンプ半導体プロセス真空ポンプ

multi-stage roots vacuum pump

semiconductor process vacuum pump

取引情報

最小注文数量:

1セット

価格:

negotiable

パッケージの詳細:

輸出標準木製ケース包装

受渡し時間:

15～30営業日

支払条件:

T/T

供給の能力:

50セット/月

商品の説明

GRM602 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 600 m3/h 中容量ソリューション

GRM601 は、中容量の多段ルーツドライ真空ポンプで、排気速度 600 m3/h、到達到達圧力 0.15 Pa 以下という驚異的な圧力を実現します。そのデュアル 1.9+1.9 kW 永久磁石同期モーターは、半導体、太陽光発電、およびリチウム電池の用途に信頼性の高いオイルフリー真空を提供します。

主な特長

多段階ルート設計:低消費電力で高い排気速度
デュアルモーター構成:1.9+1.9 kW でバランスの取れた効率的な動作を実現
超低到達圧力:≤0.15 Pa 厳しいプロセス要件に対応
超静音:≤63 dB(A) — クリーンルーム環境に最適
オイルフリー機構：デリケートなプロセスでも油汚染ゼロ
優れた粒子処理:粉塵の多いプロセス向けの高度なローター構造
コンパクトな統合:865 * 344 * 751 mm、260 kg
ほこりや蒸気に強い:プロセス副産物や湿気に対しても信頼性が高い
高度なシーリング:リップシール + ラビリンス + 窒素パージ保護
リモートインテリジェンス:ファクトリーオートメーション用のI/OおよびRS485 (Modbus)

技術仕様

モデル	GRM602
排気速度	600m3/h
到達圧力（パージなし）	≤0.15Pa
モーター出力	1.9+1.9kW
電圧	380V(三相)
インレット接続	ISO100
コンセント接続	KF25
騒音レベル	≤63dB(A)
重さ	260kg
寸法 (長さ幅高さ)	865344751mm
冷却水圧力	0.1～0.6MPa
冷却水の流れ	≧4L/分
N₂ パージ圧力	0.2～0.6MPa
N₂ パージの流れ	12～50L/分
動作温度	5～40℃。相対湿度 90% 以下

アプリケーション

半導体: PECVD、MOCVD、SACVD、RTP、HDP-CVD、ALD、メタルエッチング、シリコンエッチング
太陽光発電: 結晶成長、太陽電池製造
リチウム電池：セルの乾燥、電解液の充填、脱ガス
フラットパネルディスプレイ：LEDおよびLCDの製造プロセス

タグ:

GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ

High Light

ハイライト:

GRM602 無油乾燥真空ポンプ多段階根真空ポンプ半導体プロセス真空ポンプ

multi-stage roots vacuum pump

semiconductor process vacuum pump

GRM602 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 600 m3/h 中容量ソリューション

主な特長

技術仕様

アプリケーション

ターボ真空ポンプ,

高真空ポンプ,

GRM602 無油乾燥真空ポンプ多段階根真空ポンプ半導体プロセス真空ポンプ

GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ

GRH1202 乾燥爪真空ポンプ 1200 m3/h 半導体CVDプロセスのための無油産業真空ポンプ

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水冷却乾燥真空ポンプ 1200m3/h ≤0.5Pa 工業用用油なし

水冷ドライ真空ポンプ 200m³/h、≦0.5Pa、1.9kW、GRM201

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GRH1802 乾燥爪真空ポンプ 1800 m3/h 半導体製造用高速無油真空ポンプ

GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ

High Light

ハイライト:

GRM602 無油乾燥真空ポンプ 多段階根真空ポンプ 半導体プロセス真空ポンプ

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GRM602 マルチステージ ルーツ ドライ真空ポンプ — 600 m3/h 中容量ソリューション

主な特長

技術仕様

アプリケーション

ターボ真空ポンプ,

高真空ポンプ,

GRM602 無油乾燥真空ポンプ多段階根真空ポンプ半導体プロセス真空ポンプ

GRM602 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 600 m3/h 中容量ソリューション