家へ > 製品 >

GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ

Name: GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ
Brand: Ningbo Baosi Energy Equipment Co., Ltd.
SKU: GRM201
Price: 1,710.00 USD
Availability: InStock

製品詳細:

起源の場所:	中国
ブランド名:	Baosi
証明:	ISO9001,ISO14001,ISO45001
モデル番号:	GRM201

詳細情報

起源の場所:

中国

ブランド名:

Baosi

証明:

ISO9001,ISO14001,ISO45001

モデル番号:

GRM201

排気速度:

200m³/h

到達圧力:

≤0.5Pa

モーター出力:

1.9 KW

電圧:

380V/三相

入口:

ISO63

出口:

KF25

ノイズ:

≤63dB(A)

重さ:

150kg

寸法:

741×344×466mm

冷却水:

0.1～0.6MPa、≧3L/min

N2パージ:

0.2～0.6MPa、12～50L/min

ハイライト:

High Light

ハイライト:

GRM201 多段階乾燥真空ポンプ

油のないコンパクト真空ポンプ

半導体クリーンプロセス真空ポンプ

取引情報

最小注文数量:

1セット

価格:

negotiable

パッケージの詳細:

輸出標準木製ケース包装

受渡し時間:

15～25営業日

支払条件:

T/T

供給の能力:

60セット/月

商品の説明

GRM201 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 200 m3/h コンパクトなオイルフリーソリューション

GRM201 は、63 dB(A) 以下の超静音動作で 200 m3/h の排気速度を実現するコンパクトな多段ルーツドライ真空ポンプです。オイルフリーの多段階ルート設計により、設置面積を最小限に抑えた汚染のない真空を必要とする、クリーンおよび中程度の半導体プロセス、太陽光発電製造、およびリチウム電池の生産ラインに最適です。

主な特長

多段階ルート設計:低い消費電力と高いポンプ効率
超静かな動作:≤63 dB(A) — クラスで最も静か
オイルフリー機構：ポンプチャンバーにはオイルがまったく含まれていないため、クリーンプロセスに適合します。
永久磁石同期モーター:エネルギー効率に優れた1.9kW
優れた防塵処理:粒子の排出を強化する高度なローター構造
コンパクトな設置面積:わずか 741 * 344 * 466 mm、150 kg — 統合が簡単
防塵・防蒸気性:プロセス副産物や湿気の影響を受けにくい
完全な保護:適応能力を備えた包括的な安全機能
スマートコントロール:リモート監視用の I/O および RS485 (Modbus プロトコル)
トリプルシーリング:リップシール + ラビリンスシール + 窒素パージによりオイルフリー真空を保証

技術仕様

モデル	GRM201
排気速度	200m3/h
到達圧力（パージなし）	≤0.5Pa
モーター出力	1.9kW
電圧	380V(三相)
インレット接続	ISO63
コンセント接続	KF25
騒音レベル	≤63dB(A)
重さ	150kg
寸法 (長さ幅高さ)	741344466mm
冷却水圧力	0.1～0.6MPa
冷却水の流れ	≧3L/分
N₂ パージ圧力	0.2～0.6MPa
N₂ パージの流れ	12～50L/分
動作温度	5～40℃。相対湿度 90% 以下

アプリケーション

半導体クリーン/中規模プロセス: ALD、PECVD、MOCVD、SACVD、RTP、HDP-CVD
太陽光発電：結晶成長炉、太陽電池製造
リチウム電池：セル真空乾燥、電解液充填、脱ガス
研究開発研究所: 大学および産業研究用真空システム

タグ:

GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ

High Light

ハイライト:

GRM201 多段階乾燥真空ポンプ

油のないコンパクト真空ポンプ

半導体クリーンプロセス真空ポンプ

GRM201 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 200 m3/h コンパクトなオイルフリーソリューション

主な特長

技術仕様

アプリケーション

ターボ真空ポンプ,

高真空ポンプ,

GRM201 多段階乾燥真空ポンプ

GRH1202 乾燥爪真空ポンプ 1200 m3/h 半導体CVDプロセスのための無油産業真空ポンプ

GRH6002 ドライクロー真空ポンプ 6000m3/h 半導体プロセス用超大容量オイルフリー真空ポンプ

GRM602 多段ルーツドライ真空ポンプ 600m3/h 半導体プロセス用オイルフリー中容量真空ポンプ

水冷却乾燥真空ポンプ 1200m3/h ≤0.5Pa 工業用用油なし

水冷ドライ真空ポンプ 200m³/h、≦0.5Pa、1.9kW、GRM201

GRM1201 多段階根乾真空ポンプ 1200 m3/h 半導体用PECVDのオイルフリー MOCVD

GRH1802 乾燥爪真空ポンプ 1800 m3/h 半導体製造用高速無油真空ポンプ

GRM201 多段階の根乾真空ポンプ 200 m3/h 半導体清浄プロセスのための油のないコンパクト真空ポンプ

High Light

ハイライト:

GRM201 多段階乾燥真空ポンプ

油のないコンパクト真空ポンプ

半導体クリーンプロセス真空ポンプ

GRM201 マルチステージ ルーツ ドライ真空ポンプ — 200 m3/h コンパクトなオイルフリー ソリューション

主な特長

技術仕様

アプリケーション

ターボ真空ポンプ,

高真空ポンプ,

GRM201 マルチステージルーツドライ真空ポンプ — 200 m3/h コンパクトなオイルフリーソリューション